000 01579naa a2200301 4500
001 vtls000319181
003 RU-ToGU
005 20220224170535.0
008 101222s2000 ru a f 100 0 rus d
035 _ato000319181
040 _aRU-ToGU
_brus
_cRU-ToGU
080 _a621.38
100 1 _aКалыгина, Вера Михайловна
_974707
245 1 0 _aВлияние уровня легирования кремния на чувствительность к водороду барьерных структур Pd/n-Si
_cВ.М. Калыгина, Л.С. Хлудкова
653 _aэлектронные приборы.
653 _aтруды ученых ТГУ.
653 _aфизические процессы.
653 _aэлектрические характеристики.
653 _aкремний.
653 _aлегирование.
653 _aводород.
653 _aбарьерные структуры.
700 1 _aХлудкова, Людмила Станиславовна.
_986747
773 0 _tТруды V международной конференции "Актуальные проблемы электронного приборостроения, АПЭП-2000", Новосибирск, 26-29 сентября 2000: В 7 т.
_dНовосибирск, 2000
_gТ.2. С. 126-128
_w0131-42060
852 4 _aRu-ToGU
_nru
908 _aстатья
999 _c541623