000 | 01579naa a2200301 4500 | ||
---|---|---|---|
001 | vtls000319181 | ||
003 | RU-ToGU | ||
005 | 20220224170535.0 | ||
008 | 101222s2000 ru a f 100 0 rus d | ||
035 | _ato000319181 | ||
040 |
_aRU-ToGU _brus _cRU-ToGU |
||
080 | _a621.38 | ||
100 | 1 |
_aКалыгина, Вера Михайловна _974707 |
|
245 | 1 | 0 |
_aВлияние уровня легирования кремния на чувствительность к водороду барьерных структур Pd/n-Si _cВ.М. Калыгина, Л.С. Хлудкова |
653 | _aэлектронные приборы. | ||
653 | _aтруды ученых ТГУ. | ||
653 | _aфизические процессы. | ||
653 | _aэлектрические характеристики. | ||
653 | _aкремний. | ||
653 | _aлегирование. | ||
653 | _aводород. | ||
653 | _aбарьерные структуры. | ||
700 | 1 |
_aХлудкова, Людмила Станиславовна. _986747 |
|
773 | 0 |
_tТруды V международной конференции "Актуальные проблемы электронного приборостроения, АПЭП-2000", Новосибирск, 26-29 сентября 2000: В 7 т. _dНовосибирск, 2000 _gТ.2. С. 126-128 _w0131-42060 |
|
852 | 4 |
_aRu-ToGU _nru |
|
908 | _aстатья | ||
999 | _c541623 |