000 | 04723cam a2200829 i 4500 | ||
---|---|---|---|
001 | vtls000490268 | ||
003 | RU-ToGU | ||
005 | 20230119103639.0 | ||
008 | 141013s2012 ru a f b 000 0 rus|d | ||
020 | _a9785915222259 | ||
035 | _a005572893 | ||
040 |
_aRuMoRKP _brus _ercr _dRuMoRGB _dRU-ToGU |
||
041 | 1 |
_arus _heng |
|
080 | _a538.975-022.532:538.971 | ||
080 | _a539.216.2-022.532:538.971 | ||
084 |
_aВ372.1-6,07 _2rubbk |
||
084 |
_aЖ36-1с3,07 _2rubbk |
||
100 | 1 |
_aАльфорд, Терри Л. _996544 |
|
245 | 1 | 0 |
_aФундаментальные основы анализа нанопленок _cТерри Л. Альфорд, Леонард К. Фельдман, Джеймс В. Майер ; пер. с англ. А. Н. Образцов, М. А. Долганов ; науч. ред. рус. изд. А. Н. Образцов ; Московский гос. ун-т им. М. В. Ломоносова, Науч.-образовательный центр по нанотехнологиям |
246 | 1 | 1 | _aFundamentals of nanoscale film analysis |
260 |
_aМосква _bНаучный мир _c2012 |
||
300 |
_a390 с. _bил. _c25 см |
||
490 | 1 | _aФундаментальные основы нанотехнологий : лучшие зарубежные учебники | |
504 | _aБиблиогр. в конце гл. | ||
650 | 7 |
_aТонкие пленки _xСтруктура _2nlr_sh1 _9419416 |
|
653 | _aнанопленки | ||
653 | _aструктурный анализ | ||
653 | _aнаноповерхности | ||
653 | _aповерхности наноматериалов | ||
653 | _aнаноматериалы | ||
653 | _aкристаллические решетки | ||
653 | _aатомные столкновения | ||
653 | _aобратное рассеяние | ||
653 | _aспектрометрия обратного рассеяния | ||
653 | _aвзаимодействие излучения с веществом | ||
653 | _aвзаимодействие частиц с веществом | ||
653 | _aионная имплантация | ||
653 | _aэлектронные пучки | ||
653 | _aлазерное излучение | ||
653 | _aрадиационно-стимулированные поверхности тонких пленок | ||
653 | _aлазерно-стимулированные поверхности тонких пленок | ||
653 | _aмодификация тонких пленок | ||
653 | _aионная бомбардировка | ||
653 | _aмас-спектроскопия ионов вторичных | ||
653 | _aканалирование ионов | ||
653 | _aпримеси в кристаллической решетке | ||
653 | _aповерхностное взаимодействие в двухатомной модели | ||
653 | _aэпитаксиальный рост пленок | ||
653 | _aэлектрон-электронные взаимодействия | ||
653 | _aэлектронная микроскопия | ||
653 | _aплазмоны | ||
653 | _aтормозное излучение | ||
653 | _aдифракция рентгеновских лучей | ||
653 | _aтонкие пленки поликристаллические | ||
653 | _aдифракция электронов | ||
653 | _aпоглощение фотонов в твердых телах | ||
653 | _aрентгеновская спектроскопия поглощения тонкой структуры | ||
653 | _aрентгеновская фотоэлектронная спектроскопия | ||
653 | _aизлучательные переходы | ||
653 | _aэлектронный микроанализ | ||
653 | _aбезызлучательные переходы | ||
653 | _aОже-электронная спектроскопия | ||
653 | _aядерные методики анализа | ||
653 | _aсканирующая зондовая микроскопия | ||
653 | _aаналитические технологии нанопленок | ||
700 | 1 |
_aФельдман, Леонард К. _9419417 |
|
700 | 1 |
_aМайер, Джеймс В. _d1930- _9419418 |
|
700 | 1 |
_aОбразцов, А. Н. _4edt _9419419 |
|
830 | 0 |
_aФундаментальные основы нанотехнологий : лучшие зарубежные учебники _9283410 |
|
852 | 4 |
_aRU-ToGU _h538.9 _iА593 _nru |
|
999 | _c361148 |