000 01427nam a2200229 i 4500
001 vtls000374392
003 RU-ToGU
005 20210922033026.0
008 091103s2009 ru a f bm 000 0 rus d
035 _ato000374392
040 _aRU-ToGU
_brus
_cRU-ToGU
072 7 _a05.27.06
_2nsnr
100 1 _aЕрмошин, Иван Геннадьевич
_9341253
245 1 0 _aРазработка основ технологии получения эпитаксиальных слоев GaN, InxGa1-xN и AlxGa1-xN методом газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений для светоизлучающих структур
_bавтореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук : 05.27.06
260 _aМосква
_b[б. и.]
_c2009
300 _a20 с.
_bил.
504 _aБиблиогр.: с. 20
650 7 _aТехнология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники
_2nsnr
_982084
653 _aавторефераты диссертаций
852 4 _aRU-ToGU
_nru
999 _c253001