Normal view
MARC view
Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии Е. Берлин, Л. Сейдман
Material type:
TextSeries: Мир материалов и технологийPublication details: Москва Техносфера 2010Description: 527 с., [8] л. цв. ил. рис., таблISBN: 9785948362229Subject(s): справочные руководства | тонкопленочные технологии | вакуумные плазмохимические процессы | электрический пробой | катоды магнетронов | распыление магнетронное реактивное | ионно- плазменные процессы | твердые покрытия | тройные химические соединения | сораспыление | неоднородные магнитные поля | неравномерное нанесение пленки | управление процессами распыления | структура пленок | управление структурой пленок | гистерезисные явления | математическое моделирование процессов реактивного распыления | вакуумные напылительные установки | Caroline D12 A | ТСП- источники плазмы | установки плазмохимического травления
| Item type | Current library | Call number | Status | Date due | Barcode | |
|---|---|---|---|---|---|---|
| Выдается в читальный зал | Научная библиотека ТГУ Книгохранилище | 1-994188к (Browse shelf(Opens below)) | Выдано на имя | 13820000765012 | ||
| 1 неделя | Научная библиотека ТГУ Читальный зал 5 | 621.3 Б492 (Browse shelf(Opens below)) | Available | 13820000765011 |
Библиогр. в конце гл.
There are no comments on this title.
Log in to your account to post a comment.