Особенности азотирования поверхности мелкомодульного зубчатого венца в импульсно-периодическом газовом пучково-плазменном образовании при низком давлении В. В. Денисов, Ю. А. Денисова, Е. В. Островерхов [и др.]
Material type:
ArticleContent type: Текст Media type: электронный Subject(s): пучково-плазменное образование | ионно-плазменное азотирование | конструкционные стали | экспериментальные исследованияGenre/Form: статьи в журналах Online resources: Click here to access online
In:
Известия высших учебных заведений. Физика Т. 65, № 11. С. 38-42Abstract: Представлены результаты исследования однородности толщины модифицированного слоя на поверхности зубчатого венца из конструкционной стали 38Х2МЮА с модулем зуба m = 0.5 и количеством зубов 14, полученного в результате ионно-плазменного азотирования в пучково-плазменном образовании, генерируемом в стационарном и импульсно-периодическом несамостоятельном тлеющем разряде с полым катодом при низком, около 1 Па, давлении. Проведено сравнение толщин азотированного слоя на вершине и в основании зуба, полученных при коэффициенте заполнения разрядного импульса γ = 100, 85 и 50%. Показано, что минимальная разница в толщинах азотированного слоя, составляющая около 6%, характерна для режима с коэффициентом заполнения разрядного импульса γ = 85%. Газовые пучково-плазменные образования, формируемые при низком давлении, перспективны в процессах ионно-плазменного азотирования деталей сложной формы.
Библиогр.: 8 назв.
Ограниченный доступ
Представлены результаты исследования однородности толщины модифицированного слоя на поверхности зубчатого венца из конструкционной стали 38Х2МЮА с модулем зуба m = 0.5 и количеством зубов 14, полученного в результате ионно-плазменного азотирования в пучково-плазменном образовании, генерируемом в стационарном и импульсно-периодическом несамостоятельном тлеющем разряде с полым катодом при низком, около 1 Па, давлении. Проведено сравнение толщин азотированного слоя на вершине и в основании зуба, полученных при коэффициенте заполнения разрядного импульса γ = 100, 85 и 50%. Показано, что минимальная разница в толщинах азотированного слоя, составляющая около 6%, характерна для режима с коэффициентом заполнения разрядного импульса γ = 85%. Газовые пучково-плазменные образования, формируемые при низком давлении, перспективны в процессах ионно-плазменного азотирования деталей сложной формы.
There are no comments on this title.