Аксиальное распределение масс-зарядового состава плазмы магнетронного разряда М. В. Шандриков, И. Д. Артамонов, А. В. Визирь [и др.]
Material type:
ArticleSubject(s): планарные магнетроны | масс-зарядовый состав | ионы | аксиальное распределениеGenre/Form: статьи в журналах Online resources: Click here to access online
In:
Известия высших учебных заведений. Физика Т. 62, № 11. С. 30-33Abstract: Проведены исследования аксиального распределения масс-зарядового состава плазмы планарного магнетрона. В качестве материала мишени использовалась медь, рабочим газом являлся аргон. Для исследования масс-зарядового состава использовался модернизированный квадрупольный масс-спектрометр. Измерения проводились вдоль оси разрядной системы на расстоянии от 15 до 45 см от мишени магнетрона. Рабочее давление изменялось в диапазоне от 1.2∙10-3 до 3∙10-3 Торр при токе разряда от 100 до 500 мA в непрерывном режиме. Было показано, что на расстоянии 15 см от магнетрона в долевом отношении преобладают ионы аргона. На максимальном расстоянии наблюдаются преимущественно ионы меди. Доля ионов аргона снижается с увеличением тока разряда и увеличением рабочего давления.
Библиогр.: 15 назв.
Ограниченный доступ
Проведены исследования аксиального распределения масс-зарядового состава плазмы планарного магнетрона. В качестве материала мишени использовалась медь, рабочим газом являлся аргон. Для исследования масс-зарядового состава использовался модернизированный квадрупольный масс-спектрометр. Измерения проводились вдоль оси разрядной системы на расстоянии от 15 до 45 см от мишени магнетрона. Рабочее давление изменялось в диапазоне от 1.2∙10-3 до 3∙10-3 Торр при токе разряда от 100 до 500 мA в непрерывном режиме. Было показано, что на расстоянии 15 см от магнетрона в долевом отношении преобладают ионы аргона. На максимальном расстоянии наблюдаются преимущественно ионы меди. Доля ионов аргона снижается с увеличением тока разряда и увеличением рабочего давления.
There are no comments on this title.