Scientific Library of Tomsk State University

   E-catalog        

Normal view MARC view

Effects of sapphire substrate orientation on Sn-doped α-Ga2O3 grown by halide vapor phase epitaxy using α-Cr2O3 buffers (Record no. 997708)

MARC details
000 -Маркер записи
Контрольное поле постоянной длины 02560nab a2200457 c 4500
001 - Контрольный номер
Контрольное поле koha000997708
005 - Дата корректировки
Контрольное поле 20230310171314.0
007 - Кодируемые данные (физ. описан.)
Контрольное поле постоянной длины cr |
008 - Кодируемые данные
Контрольное поле постоянной длины 230307|2022 enk s a eng d
024 7# - Прочие стандартные номера
Стандартный номер 10.1088/1361-6463/ac962f
Источник номера doi
035 ## - Системный контрольный номер
Системный контрольный номер koha000997708
040 ## - Источник каталогиз.
Служба первич. каталог. RU-ToGU
Код языка каталог. rus
Служба, преобразующая запись RU-ToGU
245 10 - Заглавие
Заглавие Effects of sapphire substrate orientation on Sn-doped α-Ga2O3 grown by halide vapor phase epitaxy using α-Cr2O3 buffers
Ответственность A. Polyakov, V. I. Nikolaev, S. I. Stepanov [et al.]
336 ## - Тип содержимого
Тип содержимого Текст
337 ## - Средство доступа
Средство доступа электронный
504 ## - Библиография
Библиография Библиогр.: 32 назв.
520 3# - Аннотация
Аннотация Heavily Sn-doped films of α-Ga2O3 were grown by halide vapor phase epitaxy (HVPE) on basal plane c-sapphire and on (10-12) r-sapphire substrates with and without α-Cr2O3 thin buffers prepared by magnetron sputtering and annealing in air at 500 °C for 3 h. For both substrate orientations, the use of α-Cr2O3 buffers led to three major effects. The first was a substantial decrease of the half-width of the symmetric and asymmetric x-ray reflections. The second was an order of magnitude decrease of the net donor concentration produced by flowing the same amounts of Sn into the reactor. Third, there was a reduction in the concentration of the major electron trap in the films near Ec − 1 eV by more than a factor of two. These results show the major influence of sapphire substrate orientation on the electrical and structural properties of α-Ga2O3 grown by HVPE.
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова газофазная эпитаксия
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова галогениды
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова сапфировая подложка
655 #4 - Термин индексирования — жанр/форма
Жанр/форма статьи в журналах
9 (RLIN) 878220
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Nikolaev, Vladimir I.
9 (RLIN) 802460
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Polyakov, Alexander
9 (RLIN) 877365
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Stepanov, Sergey I.
9 (RLIN) 802461
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Almaev, Aleksei V.
9 (RLIN) 407941
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Pechnikov, Aleksei I.
9 (RLIN) 802462
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Yakimov, Eugene
9 (RLIN) 877368
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Kushnarev, Bogdan O.
9 (RLIN) 802463
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Shchemerov, Ivan
9 (RLIN) 877369
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Scheglov, Mikhail P.
9 (RLIN) 811517
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Chernykh, Alexey
9 (RLIN) 877370
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Vasilev, Anton
9 (RLIN) 877371
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Kochkova, Anastasia
9 (RLIN) 877367
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Guzilova, Lyubov I.
9 (RLIN) 878221
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Pearton, Stephen J.
9 (RLIN) 318412
773 0# - Источник информации
Название источника Journal of physics D: Applied physics
Место и дата издания 2022
Прочая информация Vol. 55, № 49. P. 495102
ISSN 0022-3727
852 4# - Местонахождение единицы хранения
Код организации-хранителя RU-ToGU
856 4# - Электронный адрес документа
URL <a href="http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:000997708">http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:000997708</a>
908 ## - Параметр входа данных
Параметр входа данных статья
999 ## - Системные контрольные номера (Koha)
biblionumber (Koha) 997708

No items available.