Scientific Library of Tomsk State University

   E-catalog        

Normal view MARC view

Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы (Record no. 497502)

MARC details
000 -Маркер записи
Контрольное поле постоянной длины 02850nam a2200625 i 4500
001 - Контрольный номер
Контрольное поле vtls000215857
005 - Дата корректировки
Контрольное поле 20230215101510.0
008 - Кодируемые данные
Контрольное поле постоянной длины 120827s2006 ru a f b 000 0 rus
017 ## - Номер регистрации авторского права или обязательного экземпляра
Номер государственной регистрации 06-6254
Организация, присвоившая номер RuMoRKP
020 ## - Индекс ISBN
ISBN 5948360393
035 ## - Системный контрольный номер
Системный контрольный номер (RU-RKP)ru06-016479RKP
040 ## - Источник каталогиз.
Служба первич. каталог. RuMoRKP
Код языка каталог. rus
Служба, преобразующая запись RU-RKP
Организация, изменившая запись RU-ToGU
041 0# - Код языка издания
Код языка текста rus
080 ## - Индекс УДК
Индекс УДК 621.315.592-034
080 ## - Индекс УДК
Индекс УДК 621.793.3
084 ## - Индекс другой классификации/Индекс ББК
Индекс другой классификации/Индекс ББК 32.85
Источник индекса rubbkm
100 1# - Автор
Автор Киреев, Валерий Юрьевич
9 (RLIN) 441935
245 10 - Заглавие
Заглавие Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы
Ответственность В. Киреев, А. Столяров
260 ## - Выходные данные
Место издания Москва
Издательство Техносфера
Дата издания 2006
300 ## - Физическое описание
Объем 190, [1] с.
Иллюстрации/тип воспроизводства ил.
Размеры 22 см.
490 10 - Серия
Заглавие серии Мир электроники
№ тома VII-17
504 ## - Библиография
Библиография Библиогр.: с. 188-190
650 #7 - Тематические рубрики
Основная рубрика Металлы
Основная подрубрика Осаждение из газовой фазы
Источник рубрики RuMoRKP
9 (RLIN) 524547
650 #7 - Тематические рубрики
Основная рубрика Микроэлектронные схемы интегральные
Основная подрубрика Производство
Источник рубрики RuMoRKP
9 (RLIN) 515645
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова полупроводниковые пленки
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова термоактивированные процессы
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова плазмоактивированные процессы
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова эпитаксиальные монокристаллические пленки
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова кремний
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова германий
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова полупроводниковые гетероструктуры
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова поликремний легированный
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова поликремний нелегированный
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова кремний аморфный
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова стекла силикатные
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова нитрид кремния
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова оксинитрид кремния
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова диэлектрические пленки
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова диэлектрические постоянные
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова вольфрам
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова титан
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова тантал
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова алюминий
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова медь
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова фоторезисторы кремнеорганические
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова микроструктуры
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова интегральные микросхемы
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова технология производства микросхем
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Столяров, Александр Александрович
9 (RLIN) 524548
830 ## - Заголовок добавочной библ.записи на серию — унифицированное заглавие
Унифицированное заглавие Мир электроники
9 (RLIN) 151446
852 4# - Местонахождение единицы хранения
Код организации-хранителя RU-ToGU
Полочный индекс 621.3
Авторский знак К43
Код страны ru
920 ## -
-- 5-94836-039-3
-- в пер.
-- 1500 экз.
999 ## - Системные контрольные номера (Koha)
biblionumber (Koha) 497502
Holdings
Не выдается Отсутствует на месте Поврежден Исходное место хранения Местоположение Дата поступления Цена Расстановочный шифр Штрих-код Номер копии Класс экземпляра Всего выдач Всего продлений Дата окончания срока выдачи Дата последней выдачи/возврата Ограничение доступа (факультетские б-ки) Факультетские библиотеки
      Научная библиотека ТГУ Абонемент. Депозитарий 05/04/2021 192.00 62 К43 13820000611963 1 6 месяцев            
      Научная библиотека ТГУ Абонемент. Депозитарий 05/04/2021 192.00 62 К43 13820000611964 2 6 месяцев            
      Научная библиотека ТГУ Абонемент. Депозитарий 05/04/2021 192.00 62 К43 13820000611965 3 6 месяцев            
      Научная библиотека ТГУ Библиотека РФФ 05/04/2021 192.00 621.3 К43 13820000611966 4 6 месяцев 1 5 23/07/2023 10/04/2021    
      Научная библиотека ТГУ Абонемент. Депозитарий 05/04/2021 192.00 62 К43 13820000611967 5 6 месяцев 1 1   27/01/2022    
      Научная библиотека ТГУ Книгохранилище 05/04/2021 160.05 1-952628 13820000584134 1 1 месяц            
      Научная библиотека ТГУ Книгохранилище 05/04/2021 160.05 1-952629 13820000584135 2 1 месяц            
      Научная библиотека ТГУ Факультетская библиотека 05/04/2021 170.50 62 К43 13820000539379   Выдается в читальный зал         Ограниченный доступ Каф. аналитической химии (ХФ)
      Научная библиотека ТГУ Книгохранилище 05/04/2021 112.09 1-939316к 13820000542020   Выдается в читальный зал            
      Научная библиотека ТГУ Абонемент. Депозитарий 05/04/2021 112.09 62 К43 13820000542021   6 месяцев            
      Научная библиотека ТГУ Книгохранилище 05/04/2021 170.50 1-940784 13820000539380   1 месяц