Scientific Library of Tomsk State University

   E-catalog        

Normal view MARC view

Photoelectric characteristics of metal-Ga2O3-GaAs structures (Record no. 361555)

MARC details
000 -Маркер записи
Контрольное поле постоянной длины 02851nab a2200349 c 4500
001 - Контрольный номер
Контрольное поле vtls000532349
005 - Дата корректировки
Контрольное поле 20220912141731.0
007 - Кодируемые данные (физ. описан.)
Контрольное поле постоянной длины cr |
008 - Кодируемые данные
Контрольное поле постоянной длины 180311|2015 ru s a eng d
024 7# - Прочие стандартные номера
Стандартный номер 10.1134/S1063782615030100
Источник номера doi
035 ## - Системный контрольный номер
Системный контрольный номер to000532349
040 ## - Источник каталогиз.
Служба первич. каталог. RU-ToGU
Код языка каталог. rus
Служба, преобразующая запись RU-ToGU
245 10 - Заглавие
Заглавие Photoelectric characteristics of metal-Ga2O3-GaAs structures
Ответственность V. M. Kalygina, V. V. Vishnikina, Y. S. Petrova [et.al.]
504 ## - Библиография
Библиография Библиогр.: 20 назв.
520 3# - Аннотация
Аннотация We investigate the effect of thermal annealing in argon and of oxygen plasma processing on the photoelectric properties of GaAs-Ga2O3-Me structures. Gallium-oxide films are fabricated by photostimulated electrochemical oxidation of epitaxial gallium-arsenide layers with n-type conductivity. The as-deposited films were amorphous, but their processing in oxygen plasma led to the nucleation of β-Ga2O3 crystallites. The unannealed films are nontransparent in the visible and ultraviolet (UV) ranges and there is no photocurrent in structures based on them. After annealing at 900°C for 30 min, the gallium-oxide films contain only β-Ga2O3 crystallites and become transparent. Under illumination of the Ga2O3-GaAs structures with visible light, the photocurrent appears. This effect can be attributed to radiation absorption in GaAs. The photocurrent and its voltage dependence are determined by the time of exposure to the oxygen plasma. In the UV range, the sensitivity of the structures increases with decreasing radiation wavelength, starting at λ ≤ 230 nm. This is due to absorption in the Ga2O3 film. Reduction in the structure sensitivity with an increase in the time of exposure to oxygen plasma can be caused by the incorporation of defects both at the Ga2O3-GaAs interface and in the Ga2O3 film.
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова фотоэлектрические характеристики
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова арсенид галлия
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова оксид галлия
655 #4 - Термин индексирования — жанр/форма
Жанр/форма статьи в журналах
9 (RLIN) 681159
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Kalygina, Vera M.
9 (RLIN) 90194
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Petrova, Yu. S.
9 (RLIN) 133130
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Prudaev, Ilya A.
9 (RLIN) 99979
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Yaskevich, T. M.
9 (RLIN) 133131
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Vishnikina, V. V.
9 (RLIN) 419692
710 2# - Другие организации
Организация/юрисдикция Томский государственный университет
Другие уровни Радиофизический факультет
-- Кафедра полупроводниковой электроники
9 (RLIN) 85922
773 0# - Источник информации
Название источника Semiconductors
Место и дата издания 2015
Прочая информация Vol. 49, № 3. P. 345-351
ISSN 1063-7826
852 4# - Местонахождение единицы хранения
Код организации-хранителя RU-ToGU
856 7# - Электронный адрес документа
URL <a href="http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000532349">http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000532349</a>
908 ## - Параметр входа данных
Параметр входа данных статья
999 ## - Системные контрольные номера (Koha)
biblionumber (Koha) 361555

No items available.