Scientific Library of Tomsk State University

   E-catalog        

Normal view MARC view

Фундаментальные основы анализа нанопленок (Record no. 361148)

MARC details
000 -Маркер записи
Контрольное поле постоянной длины 04723cam a2200829 i 4500
001 - Контрольный номер
Контрольное поле vtls000490268
005 - Дата корректировки
Контрольное поле 20230119103639.0
008 - Кодируемые данные
Контрольное поле постоянной длины 141013s2012 ru a f b 000 0 rus|d
020 ## - Индекс ISBN
ISBN 9785915222259
035 ## - Системный контрольный номер
Системный контрольный номер 005572893
040 ## - Источник каталогиз.
Служба первич. каталог. RuMoRKP
Код языка каталог. rus
Правила каталог. rcr
Организация, изменившая запись RuMoRGB
-- RU-ToGU
041 1# - Код языка издания
Код языка текста rus
Код языка оригинала eng
080 ## - Индекс УДК
Индекс УДК 538.975-022.532:538.971
080 ## - Индекс УДК
Индекс УДК 539.216.2-022.532:538.971
084 ## - Индекс другой классификации/Индекс ББК
Индекс другой классификации/Индекс ББК В372.1-6,07
Источник индекса rubbk
084 ## - Индекс другой классификации/Индекс ББК
Индекс другой классификации/Индекс ББК Ж36-1с3,07
Источник индекса rubbk
100 1# - Автор
Автор Альфорд, Терри Л.
9 (RLIN) 96544
245 10 - Заглавие
Заглавие Фундаментальные основы анализа нанопленок
Ответственность Терри Л. Альфорд, Леонард К. Фельдман, Джеймс В. Майер ; пер. с англ. А. Н. Образцов, М. А. Долганов ; науч. ред. рус. изд. А. Н. Образцов ; Московский гос. ун-т им. М. В. Ломоносова, Науч.-образовательный центр по нанотехнологиям
246 11 - Заглавие тома/части
Заглавие тома/части Fundamentals of nanoscale film analysis
260 ## - Выходные данные
Место издания Москва
Издательство Научный мир
Дата издания 2012
300 ## - Физическое описание
Объем 390 с.
Иллюстрации/тип воспроизводства ил.
Размеры 25 см
490 1# - Серия
Заглавие серии Фундаментальные основы нанотехнологий : лучшие зарубежные учебники
504 ## - Библиография
Библиография Библиогр. в конце гл.
650 #7 - Тематические рубрики
Основная рубрика Тонкие пленки
Основная подрубрика Структура
Источник рубрики nlr_sh1
9 (RLIN) 419416
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова нанопленки
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова структурный анализ
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова наноповерхности
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова поверхности наноматериалов
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова наноматериалы
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова кристаллические решетки
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова атомные столкновения
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова обратное рассеяние
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова спектрометрия обратного рассеяния
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова взаимодействие излучения с веществом
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова взаимодействие частиц с веществом
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова ионная имплантация
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова электронные пучки
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова лазерное излучение
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова радиационно-стимулированные поверхности тонких пленок
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова лазерно-стимулированные поверхности тонких пленок
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова модификация тонких пленок
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова ионная бомбардировка
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова мас-спектроскопия ионов вторичных
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова каналирование ионов
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова примеси в кристаллической решетке
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова поверхностное взаимодействие в двухатомной модели
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова эпитаксиальный рост пленок
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова электрон-электронные взаимодействия
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова электронная микроскопия
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова плазмоны
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова тормозное излучение
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова дифракция рентгеновских лучей
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова тонкие пленки поликристаллические
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова дифракция электронов
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова поглощение фотонов в твердых телах
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова рентгеновская спектроскопия поглощения тонкой структуры
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова излучательные переходы
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова электронный микроанализ
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова безызлучательные переходы
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова Оже-электронная спектроскопия
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова ядерные методики анализа
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова сканирующая зондовая микроскопия
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова аналитические технологии нанопленок
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Фельдман, Леонард К.
9 (RLIN) 419417
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Майер, Джеймс В.
Дата 1930-
9 (RLIN) 419418
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Образцов, А. Н.
Код отношения edt
9 (RLIN) 419419
830 #0 - Заголовок добавочной библ.записи на серию — унифицированное заглавие
Унифицированное заглавие Фундаментальные основы нанотехнологий : лучшие зарубежные учебники
9 (RLIN) 283410
852 4# - Местонахождение единицы хранения
Код организации-хранителя RU-ToGU
Полочный индекс 538.9
Авторский знак А593
Код страны ru
999 ## - Системные контрольные номера (Koha)
biblionumber (Koha) 361148
Holdings
Не выдается Отсутствует на месте Поврежден Исходное место хранения Местоположение Дата поступления Цена Всего выдач Расстановочный шифр Штрих-код Класс экземпляра
      Научная библиотека ТГУ Читальный зал 5 04/04/2021 693.88   538.9 А593 13820000880428 Выдается по месту хранения
      Научная библиотека ТГУ Читальный зал 5 04/04/2021 693.88   538.9 А593 13820000880429 1 неделя