Normal view
MARC view
Исследование эпитаксиального роста тонких пленок кремния и германия методами дифракции электронов и с помощью кварцевого измерителя толщины В. В. Дирко, В. А. Заяханов
Material type: ArticleOther title: The study of the epitaxial growth of thin silicon and germanium films by electron diffraction techniques and by ultrasonic thickness gauge [Parallel title]Subject(s): кварцевые измерители толщины пленок | эпитаксиальные слои германия | эпитаксиальные слои кремния | дифракция быстрых электроновGenre/Form: статьи в сборниках Online resources: Click here to access online In: Физика твердого тела : сборник материалов XVI Российской научной студенческой конференции, Томск, 17–20 апреля 2018 г С. 191-194No physical items for this record
Библиогр.: 3 назв.
There are no comments on this title.
Log in to your account to post a comment.